UserName: PassWord:
My account
My account
Resistencia RN
Lista de productos
ETW International,ETW Manufacturadores
R
Resistencia RN
Resistencia RN

Resistencia RN



 Resistencia RN


¿
Porque elegir resistencias RN?


1. La base de laestructura de porcelana de la gama de Resistencia de precisión RN es hechausando aluminio Alemán 96% de alta pureza, y las tapas son hechas usando unaaleación de plata Americana. Esto asegura una buena disipación del calor yresistencia eléctrica fiable.

2. La Resistencia depelícula es fabricada de un material especial de aleación usando un técnica deformado de película y luego este es cubierta con una película antioxidante desilicona de alta estabilidad.

3. Aluminio de alta pureza es usado como una capa intermedia entre laresistencia de película y las tapas, lo cual mejora en gran medida laestabilidad del rendimiento de la resistencia de precisión.  

4. Técnicas de producción avanzadas aseguran que cada una de nuestrasresistencias se ajusten a las normas.


5. Antes de la entrega, se pone a prueba cada una de las resistencias deprecisión vía sistema de computadora. Evitando así, problemas de calidad loscuales no pueden ser detectados a través de pruebas manuales. Después de esto,una prueba final de los productos terminados es realizada por KHX, con el finde garantizar la fiabilidad de rendimiento y estabilidad.



Comentarios
Otros productos
  • Resistencia de alta tensión (RI80) Resistencia de Alta tensión (RI80)1. El rango de la Potencianominal de la resistencia de alta tensión es de 1W a 500W. 2. El máximo alcance de volta
  • Resistencia de alta tensión (RI81) Resistencia dealta tensión(RI81)Debido al diseño no inductivo,esta resistencia de alto voltaje es ideal para aparatos y equipos los cualesrequieren

Estados Unidos | Argentina | Brazil | China | Francia | Alemania | Japón | Corea | Rusia | España | Suiza | TTailandés | EAU | Reino Unido | Vietnam | Polonia | Italia | Marruecos | Malasia | Portugal | India | Canadá

Copyright © 2008 - ETW International. All rights reserved.